Электронно - зондовый микроанализатор EPMA - 8050G

Электронно - зондовый микроанализатор EPMA - 8050G

EPMA-8050G – это дебют Shimadzu в области микроанализа с применением передовой технологии катода с полевой эмиссией (катод Шоттки). Новая электронно-оптическая система микроанализатора EPMA-8050G обеспечивает беспрецедентное пространственное разрешение во всем диапазоне токов – вплоть до нескольких микроампер. Прибор оснащается системой рентгеновских спектрометров (ВДС+ЭДС), оптическим микроскопом, сдвоенным цифровым преобразователем сканирования и новой рабочей станцией.

 

В зависимости от решаемых задач могут дополнительно устанавливаться:

- модуль наблюдения в проходящем поляризованном свете
- приставка для образцов с функцией вращения
- различные держатели образцов, включая держатели с возможностью охлаждения и держатели для больших образцов
- модуль катодолюминесценции 

 

Основные технические характеристики:

 

Система волнодисперсионных рентгеновских спектрометров - от 2 (стандарт) до 5 (опция) каналов (возможно дооснащение одним энергодисперсионным спектрометром):
- диапазон анализируемых элементов от Be до U
- угол детектирования рентгеновского излучения: 52,5˚
- чувствительность: менее 0,1 вес.%
- разрешение: 10-20 эВ
- разрешение в режиме вторичных электронов: 3 нм 
- ускоряющее напряжение: 0,5-30 кВ с шагом 0,1 кВ (при напряжении до 5 кВ возможна установка с шагом 10 В)
- увеличение: х40 - х400 000
- детектор обратно-рассеянных электронов (BSE): четырехсекционный, полупроводниковый
- апертура: отсутствует необходимость смены во всех режимах работы электронного микроскопа

 

Оптическая система наблюдения:

 

- разрешение: 1 мкм
- поле видения: диаметр 600 мкм (480 х 360 мкм на мониторе)
- глубина фокуса: 4 мкм


Платформа для держателей образцов:

 

- максимальный размер образца: 100х100 мм, высота – 50 мм
- максимальный вес образца: 2 кг
- диапазоны перемещения платформы:оси X, Y – 90 мм; ось Z – 7 мм
- минимальный шаг перемещения:по осям X, Y – 0,02 мкм; по оси Z – 0,1 мкм
- максимальная скорость перемещения платформы: по осям X, Y – 15 мм/с; по оси Z – 1 мм/с
- диапазоны перемещения подставки – оси X, Y – 90 мм, ось Z – 7 мм

 

Режимы анализа:

 

- качественный и количественный анализ
- режим картирования и анализа по линии
- построение калибровочных кривых
- анализ химического состояния
- моделирование области проникновения электронного луча (метод Монте Карло)
- фазовый анализ
- анализ следовых количеств элементов

 

Автоматизированные функции:

 

фокус, стигма, контраст/яркость, насыщение источника электронов, установка тока пучка